電化學(xué)阻抗譜（EIS）是腐蝕科學(xué)中一種重要的頻率域研究測試方法，是研究金屬電化學(xué)腐蝕動力學(xué)、金屬和涂層的腐蝕機制及耐蝕性能的重要方法之一。涂層是防止金屬腐蝕的一種重要手段，用EIS方法可以在不同頻率段分別測得從參比電極到涂層之間的雙電層電容C_dl、溶液電阻R_s、電荷傳遞電阻R_ct以及涂層微孔電容等其它與涂層耐腐蝕性能和涂層腐蝕過程的相關(guān)信息。

然而，金屬涂層一般具有高阻抗的特性，其阻抗量級可以達(dá)到GΩ以上，需要測試儀器具有非常高的輸入阻抗以及具備精確采集微小信號的能力。如何準(zhǔn)確測量并得到該量級下涂層的交流阻抗譜，具有非常大的難度。東華分析DH7000系列電化學(xué)工作站配合法拉第屏蔽箱，能夠準(zhǔn)確測量高達(dá)百GΩ阻抗量級的涂層阻抗。

接線方式：常規(guī)三電極接線方式，SE與G短接后接屏蔽箱，可有效提高儀器輸入阻抗以及降低體系噪聲。

圖1 接線方式

測試案例：

圖2 7000C測試高阻涂層樣品阻抗圖